‘반도체 기술 유출’ 삼성전자 전 직원 징역 7년

협력업체 직원 징역 2년 6개월
법원 “국가 산업 경쟁력 악영향”

반도체 국가 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 구속기소된 삼성전자와 협력업체 전직 직원이 1심에서 중형을 선고받았다.

서울중앙지법 형사25부(재판장 지귀연)는 19일 산업기술보호법 위반 등 혐의를 받는 전직 삼성전자 부장 김모씨에게 징역 7년과 벌금 2억원, 협력업체 A사 직원 방모씨에게 징역 2년 6개월을 각각 선고했다.

기사의 이해를 돕기 위한 자료 사진. 사진=게티이미지뱅크

재판부는 “건전한 경쟁을 심각하게 저해하고 이를 만든 피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄”라고 지적했다. 이어 “삼성전자 측 제출 자료 관련 내용과 검사 주장 등을 종합하면 18나노 D램 개발 후 양산에 성공하는 데 들인 비용과 중국 경쟁업체가 이를 개발 후 양산에 성공해 이른 점 등을 감안했을 때 삼성전자가 입은 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 쉽게 예상할 수 있다”고 밝혔다.

김씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받는다. 국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사의뢰했다.

검찰은 김씨가 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 반도체 증착 관련 자료와 7개 핵심 공정 관련 기술 자료를 유출하고 수백억원대 금품을 수수한 것으로 파악했다. 이들은 최소 세후 5억원이 넘는 금액을 제시하며 삼성전자와 관계사의 기술 인력 20여명을 빼간 것으로 조사됐다.