데이터의 양이 2배로 늘어난다는 의미는 반도체에 2배로 정교한 회로를 그려 넣는 기술이 필요하다는 의미로, 이미 예상보다 빠르게 발전하고 있는 지금에 와서는 이를 위한 기술이 비용이나 공정 면에서 상용화하기 어렵다는 문제점으로 이어지고 있다.
28일 포스텍(포항공대)에 따르면 신소재공학과 이태우 교수 연구팀이 나노와이어(나노선) 정렬 프린팅 공정을 이용해 고집적 메모리소자인 멤리스터 어레이를 제작하는데 성공했다.
이 기술은 재료과학 분야 세계적 권위지인 ‘어드밴스드 머터리얼지’지 인사이드 커버 논문으로 게재됐다.
이 기술은 공정 속도가 빠르고 생산비용이 저렴할 뿐 아니라, 눈에 보이지 않는 미세한 나노선을 이용해 투명 전자소자나 웨어러블 기기 소자의 상용화에 큰 도움을 줄 것으로 기대된다.
나노선은 원하는 방향과 위치에 맞게 조절하는 것이 어려워 실제로 큰 면적과 고집적도를 가진 전자소자로 구현하기 힘들다는 단점이 있었다. 연구팀은 전기장을 이용, 금속 나노선을 기판 위에 직접 정렬시키는 기술을 메모리 소자 어레이 제작에 응용했다.
이 기술로 크로스바 모양으로 두 번의 교차 정렬로 프린팅된 금속나노선을 이용해 3층의 금속-산화물-금속 커패시터 구조를 만드는 아주 빠르고 간단한 공정으로 고집적 메모리 어레이를 구현해냈다. 나노구조체의 패턴형태나 간격을 자유롭게 조절할 수 있어 소자의 특성이나 집적도도 쉽게 제어할 수 있으며, 이런 방식을 이용하여 초정밀의 나노 프린터를 만들게 되면 궁극적으로 아주 작은 크기의 메모리 소자 제작도 가능해져 곧 한계에 다다를 것으로 예상되는 무어의 법칙도 이어갈 수 있을 것으로 기대된다.
또 곡선형태의 나노구조체를 제작해 신축성과 유연성을 가진 멤리스터 소작 제작도 가능해 섬유나 웨어러블 형태의 메모리 어레이 제작도 가능해진다.
이태우 교수는 “기존의 멤리스터 제조 방법에 비해 시간과 비용이 크게 줄어들었을 뿐 아니라 공법도 간단해져 프린팅 기술을 이용한 고집적 메모리 소자의 응용성을 높일수 있을 것”이라며 “특히 이번 성과는 입는 컴퓨터, 섬유 전자소자, 플렉서블 전자소자 등을 위한 원천기술로 응용될 것”이라고 밝혔다.
포항= 장영태 기자 3678jyt@segye.com